据介绍，氢能作为目前最具发展潜力的清洁能源，但其分离与提纯方法是当前制约氢能广泛应用的关键问题。陶叶晗等发现，孔洞石墨烯具有较易控制的孔结构。该团队采用计算机模拟方法，研究不同结构及条件下，石墨烯对不同气体分子的选择性吸附和分离的影响，进而探索石墨烯在气体分离方面的应用。这种理论对设计新型高效的氢气分离膜具有重要意义。
无独有偶，西班牙Graphenea公司于近日宣布，与日本立命馆大学等共同实现了GaN结晶用石墨烯作为中间层时在硅(100)面上的生长。该技术是日本立命馆大学理工学部电子光信息工学科荒木努和名西Yasushi的研究室、美国麻省理工学院(MIT)、韩国首尔大学(Seoul National University)、韩国东国大学(Dongguk University)及西班牙Graphenea公司共同开发的。
在硅(100)面上直接生长缺陷少的GaN结晶时非常困难，几乎没有成功先例。此次Graphenea公司等在硅(100)面上首先形成石墨烯，然后在石墨烯上实现(0001)面的GaN结晶生长。
值得期待的是，2014年9月1日至3日，一场汇聚全球一流石墨烯科学家和企业家的中国国际石墨烯创新大会将在宁波东港喜来登大酒店隆重举办，以Graphenea公司、ICN2研究所、ICFO研究所为代表的西班牙组团也将参加本次大会。另外，从组办方会议网站了解到，参加本次大会还有英国国家石墨烯研究院、英国国家物理实验室、剑桥大学、美国莱斯大学、法国国家科学研究中心、意大利科技研究所石墨烯实验室、日本国立材料研究所、新加坡国立大学、CVD设备公司、Angstron Materials公司、诺基亚公司、东丽先端公司、一汽集团、康佳集团、墨西科技、深圳贝特瑞、伟星集团、深圳市电子商会、中煤出口、金山矿业、中信建投等国内外一流企业和机构。相信通过本次大会的成功举办,必将成为加强国际石墨烯材料技术交流合作的桥梁纽带,促进国内外知名企业更多地关注和投资石墨烯产业。
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