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真空镀膜技术是真空应用技术的一个重要分支，它已广乏地应用于光学、电子学、能源开发，理化仪器、建筑机械、包装、民用制品、表面科学以及科学研究等领域中。真空镀膜所采用的方法主要有蒸发镀、溅射镀、离子镀、束流沉积镀以及分子束外延等。此外还有化学气相沉积法。如果真空镀膜的目的是为丁改变物质表面的物理、化学性能，则这一技术又是真空表面处理技术中的重要组成部分。现就其几个主要府用方面做一简单介绍。
  首先在光学方面，一块光学玻璃或石英表面上镀一层或几层不同物质的薄膜后，即可成为高反射或无反射(即增透膜)或者作仟何预期比例的反射或透射材料，也可以做成对某种波长的吸收，而对另一波长的透射的滤色片。高反射膜从大口径的天文望远镜和各种激光器开始，一直到新型建筑物的大宙镀膜玻璃，都很需要。增透膜则大量用于照相机和电视摄像机的镜头上
在电子学方面真空镀膜更占有极为重要的地位。各种规模的集成电路，包括存储器、运算器、高速逻辑元件等都要采用导电膜、绝缘膜和保护膜。作为制备电路的掩膜则用到铬膜。磁带、磁盘、半导体激光器、约瑟夫逊器件、电荷铝合器件(CCD)也都用到各种薄膜。
在显示光器件方面，录像磁头、高密度录像带以及平面显示装置的透明导电膜、摄像管光导膜、显示管荧光屏的铝衬等也都是采用真空镀膜制备。在元件方面，在真空中蒸发镍铬，铬或金属陶瓷可以制造电阻，在塑料上蒸发铝、一氧化硅、二氧化钦等可以制造电容器，蒸发硒可以得到静电复印机用的硒鼓、蒸发铣酸钡可以制造磁致伸缩的超声元件等等。
真空蒸发还可以用于制造超导膜和惯性约束聚变反应用的微珠镀层。此外还可对珠宝、钟表外壳表面、纺织品金属花纹、金丝银丝等蒸镀装饰用薄膜，以及用于溅射镀或离子镀对刀具、模具等制造超硬膜。近两年内所兴起的多弧离子镀制备铱金制航，如不锈钢薄板、镜面板、僵柱、扶手、高当床托架、楼梯栏杆等白前正在盛行。
真空镀膜技术一般分为两大类，即物理 气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。
物理 气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理 气相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。
物理 气相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广 泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。同时，物理 气相沉积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下，因此可作为最终的处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上。
由于采用物理 气相沉积工艺可大幅度提高刀具的切削性能，人们在竞相开发高性能、高可靠性设备的同时，也对其应用领域的扩展，尤其是在高速钢、硬质合金和陶瓷类刀具中的应用进行了更加深入的研究。
化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。
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